精實新聞 2013-11-28 13:32:45 記者 羅毓嘉 報導
為了因應半導體製程往1X奈米縮微，半導體量測儀器大廠愛德萬測試(Advantest,NYSE: ATE)宣佈推出多功能整合型量測掃描式電子顯微鏡系統E3640，藉此滿足新的光罩缺陷檢測需求。愛德萬測試指出，該型電子顯微鏡還可針對EUV(極紫外光)光罩、NIL母模等下一代的微影技術提供更佳的缺陷檢測效能，機台預定明年6月上市。
愛德萬指出，E3640是愛德萬測試E3600系列全新電子顯微鏡產品，其精準度和產出速度已獲得大幅精進，並擁有更佳的圖樣缺陷檢測能力，可支援業界即將面臨的1X奈米製程。
除應用於標準半導體微影光罩檢測外，E3640亦能針對EUV光罩、NIL母模等下一代微影基板提供更高量測效能。
愛德萬表示，隨著行動裝置終端市場需求日漸高漲，半導體產業即將在短期內進入1X奈米製程量產階段，此重大轉變將帶動業界對於超小尺寸元件高穩定性、高精準度圖樣缺陷檢測能力的需求。
愛德萬強調E3640的推出正是回應此需求，這套系統可提供領先業界的精密量測能力，且功能更先進更強大，有助於提升光罩研發和產出效率。愛德萬測試將於2013年12月4-6日在日本幕張國際展覽中心SEMICON Japan國際半導體展上展出E3640，並預計於2014年6月正式推出。
