MoneyDJ新聞 2014-09-04 09:59:38 記者 新聞中心 報導
晶圓代工龍頭台積電(2330)16奈米鰭式場效電晶體(FinFET)可望於年底進入量產，10奈米製程亦正式進入研發階段，並已取得10奈米以下先進製程的關鍵極紫外光(EUV)機台，成功突破半導體摩爾定律可能受到的物理極限瓶頸。據悉，該廠商近期在EUV技術的晶圓曝光速度成功達每日600片。
主導EUV設備開發的艾司摩爾(ASML)亞太區技術行銷協理鄭國偉昨(3)日於國際半導體展表示，已接獲多家半導體大廠共11台EUV訂單，首批六台已交貨。據了解，ASML現有11台EUV訂單中，其中兩台為台積電所下單。他表示，ASML有信心協助客戶在今年底前試產10奈米製程，於2016年將10奈米製程導入量產，且後續將著手為7奈米製程做準備。
台積電董事長張忠謀先前於法說會表示，28奈米製程是驅動台積電過去3年業績成長的主要動力，至於未來3年成長的主要動力則為20奈米及16奈米製程。他預計，20奈米製程今年第四季比重將逾2成，全年將超過1成，明(2015)年則將逾2成；16奈米製程將於明年第三季量產，明年第四季可貢獻營收個位數百分點；至於10奈米製程，則預定明年下半年tape-out(試產)。
