美國收緊先進半導體設備出口管制之際，中國仍大量囤積艾司摩爾（ASML）的浸潤式深紫外線（DUV）曝光機，以用於生產先進晶片。華府智庫科技與國家治理能力中心（CTS）上月公布的報告指出，截至2026年初，中國晶圓廠累計已取得343台DUV。為堵住相關漏洞，報告建議全面禁止向大陸出口DUV設備，並收緊零組件及維修服務管制。
