MoneyDJ新聞 2024-09-04 09:50:21 記者 蔡承啟 報導
美國英特爾(Intel)、日本經濟產業省所屬的產業技術總合研究所(產總研)據悉將在日本國內設立研發據點，研發先進半導體(晶片)製造設備和材料，且將導入極紫外光(EUV)微影設備。
綜合日本媒體3日報導，英特爾、產總研將在日本國內設置研發(R&D)據點，用來研發使用於最先進晶片的製造設備和材料。上述新研發據點目標在3-5年後設立，總投資額預估達數百億日圓的規模，將導入EUV微影設備，且將由產總研負責營運、英特爾將提供使用EUV的半導體製造知識。
報導指出，目標在2027年量產2奈米晶片的Rapidus將在2024年12月導入全日本第一台EUV微影設備，而上述計劃設立的研發據點將成為日本第一家導入EUV設備的研究機構。上述計劃設立的研發據點也考慮和美國研究機構進行技術合作、人才交流。
據報導，EUV微影設備是生產5奈米以下先進晶片所不可或缺的，不過一台要價超過400億日圓，材料、設備廠商難於自家進行購買，目前主要藉由使用imec等海外研究機構的EUV設備進行研發。
全球晶圓代工龍頭台積電(2330)已在2022年6月於日本茨城縣設立次世代半導體的研發據點，而三星電子也計畫在2024年度內於日本橫濱市設立晶片研發據點。
(圖片來源：英特爾)
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