半導體為第一重點，光洋科看好濺鍍靶材成長

MoneyDJ新聞 2024-01-22 10:06:54 記者 邱建齊 報導

專業貴金屬與薄膜靶材商光洋科(1785)表示，科技發展離不開數據，過去資料是人在產生，後來變成設備產生，現在發展到AI則是資料本身也在產生資料，因此資料存取跟應用仍會是持續發展的態勢；公司產業佈局主要聚焦三大領域包括半導體/儲存(特別是雲端大數據儲存)/顯示，在未來3~5年發展重點依序第一是半導體、第二資料儲存解決方案，後續除了這兩大產業的布建主軸，循環經濟的布建也會持續進行。

以半導體為例，光洋科靶材用於薄膜沉積製程(濺鍍)，材料特性包括高純度、適當的織構、高相對密度、細晶粒微結構、均勻的微結構，也因晶片複雜度提升帶動對材料需求成長，看好全球半導體業濺鍍靶材市場規模將從2020年的13.05億美元，以8%的年複合成長率(CAGR)到2027年達到22.37億美元。

光洋科表示，2023年下半年度獲得產業客戶相關訂單，且綜觀整體觀察產業狀況，2024年需求可望逐步回溫；而2023年底半導體前端製程的VAS(Value Added Sales,非貴金屬)累計收入已達成原定目標佔整體VAS收入的10%，與2022年度VAS累計收入相比有微幅成長，預期在半導體客戶需求逐步放量及公司持續爭取市占率下，將繼續推升營運動能。

法人表示，隨著電子業景氣復甦，加上2023年Q4開始量產的半導體製程工繳產品持續貢獻VAS，預期未來5年VAS的CAGR將達50%，2026年更可望隨產品技術逐漸成熟，成為國內半導體業者先進製程的重要供應商，預估2024年合併營收看高個位數年增，稅後純益年增近2成，EPS估從2023年約2.2元挑戰突破2.6元。