MoneyDJ新聞 2026-07-29 11:57:56 數位內容中心 發佈
半導體離子植入設備企業Axcelis Technologies, Inc.（ACLS.US）於2026年7月28日宣布，Purion XEmax高能離子植入機已在一家領先晶圓代工廠完成評估結案，後續將投入電源管理積體電路生產。
Axcelis Technologies, Inc.表示，該設備已符合一項需要先進15MeV植入能力的新興PMIC裝置應用，產品用途也從設備驗證推進至客戶實際生產，鎖定對高能量植入條件要求更高的先進PMIC製程。
Purion XEmax主打高能量植入能力，束流表現位居業界前段，能源範圍可達15MeV，並採用雙LINAC設計與專利Boost Technology™，訴求在提升高能量製程能力的同時，降低金屬污染風險。
總裁暨執行長Russell Low表示，這次評估結案反映客戶對更高能量植入配方的需求正在增加，尤其集中在先進PMIC裝置，也帶動高能量離子植入設備在功率與類比半導體製程中的導入。
