MoneyDJ新聞 2024-09-16 09:07:59 記者 新聞中心 報導
綜合港媒報導，中國工信部近日宣布，研發出首台國產深紫外光曝光機(DUV)，可生產8奈米及以下晶片。據中國工信部「首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)」的通知顯示，「氟化氬光刻機」(DUV曝光機)設備的核心技術指標是「晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm」。這意味著該設備理論上可以用於生產8奈米及更先進製程的晶片。
近期，美國和荷蘭相繼收緊半導體製造設備的出口管制措施，包括對ASML部分中階DUV設備的限制，中國國產DUV曝光機的研發進展受到關注。外媒引述專家指出，儘管與全球領先的荷蘭ASML公司的設備相比還存在一定差距，但中國自主研發的DUV曝光機，填補了中國國內半導體設備製造的一項重要空白。
