精實新聞 2014-03-12 12:31:00 記者 王彤勻 報導
EUV(極紫外光)微影技術進展一波三折，近期供應鏈再傳出EUV(極紫外光)微影技術進度慢於預期，台積電(2330)可能重回浸潤式微影技術(immersion)懷抱的說法，或者至少，台積在10奈米製程仍將選用浸潤式微影技術。根據外資里昂出具的最新報告，EUV時程的遞延，可能會導致晶圓廠的微影成本提高10~15%。惟即使有此不利影響，里昂仍看好無論如何，摩爾定律仍將延續，台積的10奈米製程相較於同業，也可望具備更佳的成本架構，因此仍維持台積的買進(Buy)評等，以及137元的目標價。
里昂分析，光微影技術(Photolithography)是IC生產製程中最關鍵、也最昂貴的一個步驟。在導入浸潤式微影技術以改善數值孔徑(numerical aperture)之後，半導體產業就持續進行EUV技術的研發，盼能讓未來先進製程的推進更符合生產效益。
不過，里昂指出，根據業界消息，半導體產業原先希望於10奈米就能導入EUV技術，惟就近期供應鏈傳出的風聲看來，EUV技術可能在2017~2019年之前，都還沒有準備好量產。如此一來，10奈米製程等於僅有多重曝光(multiple-patterning)一個選擇，晶圓代工廠勢必面臨生產成本拉高的挑戰。
里昂觀察，若於10奈米製程採用三層曝光，成本將較採用EUV高出10~15%。如此一來，台積、英特爾等積極進行相關技術研發的晶圓代工領頭羊，第一要務即是拉長每一製程的生命週期、讓設備生產效益延展到最大，同時縮短良率的學習曲線。而雖挑戰艱鉅，里昂仍看好，台積於上述幾大因子都具備優勢，10奈米相較於同業也可望具備更佳的成本架構，因此里昂仍維持台積的買進(Buy)評等，以及137元的目標價。
回歸台積電營運基本面，日前公布的2月營收雖月減8.95%來到468.29億元，惟前兩月營收已達982.59億元，距離法說會所釋出、Q1營收將落在1360~1380億元的財測，僅剩下約377~378億元的缺口。對此，外資也紛紛看好，相較於原先財測預估的季減5~7%，台積如今Q1營收則可望挑戰較去年Q4持平以上的成績，主要動能即是來自聯發科(2454)八核3G晶片、Marvell與海思(HiSilicon)的4G基頻晶片、sub PMIC(次電源管理IC)、大尺寸面板驅動IC同步湧入急單所致。
