意法半導體在法國最大生產基地Crolles廠推動節水計畫
依據法媒新工廠(UsineNouvelle)4月最新出版之月刊報導，法義合資之意法半導體(STMicroelectronics)位於法國東南部Crolles廠，消耗水量相當於一座10萬人口之城市，由於法國刻面臨乾旱之威脅，該廠盼從三方面進行改善包括:(一)提升生產過程的用水效率、(二)強化水資源回收利用及(三)推動水源供應多元化，以有效節約用水。
半導體生產不僅高耗能亦相當耗水，其中用水最多的製程為晶圓沖洗、生產設備冷卻、無塵室內恆溫與濕度控管以及廢水處理站管理等。在長達一季至半年之生產週期當中，須對晶圓反覆進行徹底清洗，製程所需之超純水來自公共供水系統再經現場處理，冷卻系統與廢水處理站之水質要求則相對較低。上(2022)年意法半導體Crolles廠耗用420萬立方公尺水量，佔當地水公司(Eaux de Grenoble Alpes)總量13%以上。
法媒指出，該廠之冷卻設備用水多蒸發至大氣中，清洗晶圓之廢水自2000年以來，經廢水處理站淨化處理後，主要回收再利用於冷卻系統，其餘排入伊澤爾河(Isere)。意法半導體表示，公司不僅將持續改善製程之用水效率，亦將大幅提升回收率。舉例來說，最新設備耗水量較20年前之舊機型減少6倍，受惠於製程優化，2016年至2022年間生產晶片之用水量已大幅減少41%，經統計2022年廢水回收率達43%，並已設立2025年回收率50%之目標。該公司工程師兼工會代表Aymeric Mougeot建議，應師法南韓三星與以色列Tower，提高可回收率，理論上廢水回收率最高可達90%，10%為蒸發損失，然而需大量投資始得實現該遠大目標。
法媒亦表示，意法半導體Crolles廠近年用水量雖已趨穩定，但隨該集團與美商格羅方德(GlobalFoundries)合作擴建新廠，2024年至2026年間用水量勢必再度攀升，為此該集團刻布署新的水處理設施，預計將耗資數千萬歐元，並於2024年啟用。另一方面，水源多元化亦為推動重點，例如意法半導體已獲准能在廠區內鑿井取地下水，預計2024年起可供水。工會代表Aymeric Mougeot則呼籲意法半導體可與週邊廠商如半導體材料商Soitec共享供水與水處理設施，將能提升投資效益且對環境保護有所益處。
針對意法半導體及Soitec因密集用水引發相關示威抗議情事，前者表示該集團對於法國及歐洲建立產業自主權扮演戰略要角，尤其Crolles廠區對於歐洲實現2030年次世代晶片市占率由10%翻升為20%之目標最為關鍵，重申其對水資源議題之重視，並表示業成立節水委員會，將監督並協助法國各廠區落實節約用水。(資料來源：經濟部國貿局)
