MoneyDJ新聞 2025-12-18 08:38:06 新聞中心 發佈
據港媒引用路透社報導，據消息人士指出，中國科學家於今(2025)年初在深圳打造出一台極紫外光(EUV)光刻機的原型機，目前正在測試階段，將用於生產尖端半導體晶片，這些晶片將為人工智慧(AI)、智慧型手機及現代武器系統提供動力。
據悉，這台EUV光刻機由荷蘭晶片設備製造商ASML的前工程師團隊打造，他們對ASML的EUV光刻技術實施了逆向工程。中國的原型機能夠成功產生EUV光，但尚未生產出能運作的晶片，中國政府的目標是在2028年實現晶片生產，但更有可能到2030年才實現量產。
這項被形容為「中國版曼哈頓計劃」的秘密工程項目，突顯出中國致力於在AI晶片技術領域與西方匹敵。而所謂「曼哈頓計劃」，原指美國二戰時期秘密研製原子彈的戰時計劃。
據了解，這項「中國版曼哈頓計劃」在中國國家半導體戰略框架下運作，並由中共高層領導監督，華為在其中扮演核心角色，負責協調一個由中國國家科研院所、供應商和工程團隊組成的網路，涉及數千名工作人員。中國的目標是最終使用完全中國國產的設備生產先進晶片，進而擺脫對美國及其盟友供應鏈的依賴。
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