ASML與台積電、Intel及三星共同宣布推進下一代12寸光罩技術產業倡議，台積電及Intel聚焦High NA EUV量產、三星著眼未來DRAM製造
2026/09/08 16:11
ASML與全球三大重要先進晶圓製造業者台積電、Intel及三星還有High NA EUV採用廠商及其他主要供應商宣布共同宣布推進下一代12寸光罩技術產業倡議，將放眼自現行6吋光罩轉移到12吋光罩，引領半導體產業升級至更大尺寸的極紫外光微影(EUV)光罩；其中台積電目標在2031年前建立12吋光罩試產線、2033年實現微影設備全面就緒，Intel則持續推動High NA EUV技術，三星希冀在未來的
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