ASML、台積電聯手推進 High NA EUV 應用，12 吋光罩布局瞄準 2033 年量產
2026/09/08 16:40
ASML、台積電聯手推進 High NA EUV 應用，12 吋光罩布局瞄準 2033 年量產半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 與晶圓代工龍頭台積電攜手宣布進行合作，共同引領半導體產業轉移升級至更大尺寸的極紫外光 (EUV) 微影光罩。未來 High NA EUV 將自現行的6吋光罩，轉移至更大的 12 吋光罩，預期將進一步提升晶圓廠的生產力、降低晶片製造成本，並消除需要兩張 6 吋光罩在
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