精實新聞 2012-11-22 07:48:56 記者 羅毓嘉 報導
為了支應越來越精細的半導體光罩製程，測試設備大廠愛德萬測試(Advantest, NYSE: ATE)宣佈推出全新的光罩缺陷檢驗掃描式電子顯微鏡系統E5610，愛德萬指出，該系統不僅可檢測光罩基材中超細微缺陷，還能加以分類，將能提昇下一代的光罩品質，在「不容許一丁點出錯」的光罩製造環境中，協助客戶優化良率。
愛德萬指出，光罩製程不容許出現任何重大缺陷，因為這不僅會降低良率，也將連帶影響製程週期時間，隨著半導體製程越來越精密，光罩的品質亦牽動半導體廠的製程順暢與否。
對此愛德萬已開發出具備全自動影像擷取技術的光罩缺陷檢測系統E5610，提供多視角量測掃描式電子顯微鏡檢測光罩的缺陷。
愛德萬說明，E5610即使在低加速電壓環境下進行光罩掃描，也能讓空間解析度達到2奈米水準；同時為了因應3D光罩的趨勢，該系統提供電子控制傾斜模組，可使光束上揚15度，提高3D缺陷偵測的偵錯能力，足以支應下一代光罩品檢的需求，縮短客戶製造週期。
除高精密度的檢測能力之外，愛德萬表示，E5610可將缺陷逐一分類，並依缺陷類別判斷適當修復方式，在既定製程週期時間內達成良率目標，即使在掃描式電子顯微鏡高度放大的情況下，仍能展現高產能效率，穩定進行全自動缺陷造影。
愛德萬將在今年12月5-7日舉行的SEMICON Japan期間，展出E5610在內的多款最新量測解決方案。
