挖角 ASML 老將、用假身分掩護 華為領軍中國版「曼哈頓計畫」打造 EUV 設備甩開美國
2025/12/18 13:10
本文重點：中國已在深圳完成 EUV 微影機原型，可產生極紫外光但尚未製出晶片，半導體自主時程恐提前至 2030 年，遠早於外界預估的十年。由前 ASML 工程師透過逆向工程打造，團隊成員使用假身分掩護，被形容為中國版「曼哈頓計畫」。華為扮演核心協調角色，串聯全國數千名工程師，員工吃住都在廠區且團隊彼此隔離保密。據《路透社》獨家獲悉，中國已在深圳一座戒備森嚴的實驗室內，完成一台極紫外光（EUV）微影
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