MoneyDJ新聞 2026-06-22 07:38:03 李彥瑾 發佈
針對外界質疑「極紫外光（EUV）曝光機流入中國市場」的疑慮，荷蘭半導體設備大廠ASML（ASML.US）19日發布聲明澄清，強調從未違法出口EUV機台或相關零組件至中國，所有業務皆遵循美國出口管制規範辦理。
路透社報導，彭博社先前刊登報導稱，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）近期曾多次向ASML高層表達憂慮，指出該公司疑似違反美國出口管制規定，非法將最先進的EUV機台輸往中國。
對此，ASML 19日發聲明強調，絕沒有「違法輸出EUV機台或零件至中國」之情事，該指控與事實不符，公司一向秉持合規原則經營，確保各項業務符合法規要求。
EUV曝光機是目前最先進的曝光機系統，體積如同一台巴士、重量高達180公噸，由ASML公司獨家打造。由於EUV曝光機具備獨佔性和極高的技術壁壘，美國近年聯合盟友加強出口管制，限制中國取得相關設備與技術。
荷蘭外交部則表示，荷蘭針對半導體設備出口設有明確規範，相關管制依據歐盟《軍民兩用物項出口規則》（Dual-Use Regulation）執行。凡列入管制清單[的設備、零組件及技術，均須申請出口許可證，政府也將持續嚴格執法，以確保規則有效執行。
值得注意的是，路透社去年底曾報導，中國研究團隊已開發出EUV曝光機原型機，參與成員包括前ASML工程師。該計畫被外界形容為中國版「曼哈頓計畫」，凸顯中國正加速推動先進半導體設備自主化，以降低對西方技術的依賴。
（圖片來源：ASML）
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