MoneyDJ新聞 2023-11-06 11:34:17 記者 郭妍希 報導
日本半導體設備大廠Canon Inc.透露，新推的「奈米壓印(Nano-imprint Lithography；NIL)」微影設備售價只有龍頭廠艾司摩爾(ASML Holding N.V.)最佳機台的幾分之一。
彭博社5日報導，Canon執行長御手洗富士夫(Fujio Mitarai)受訪時表示，最新NIL技術讓小型半導體廠也有機會生產目前幾乎全由大企業寡占的先進晶片。他說，「機台售價將比ASML的極紫外光(EUV)微影設備少一位數(one digit less)。」不過，最終價位尚未敲定。
御手洗表示，Canon也許無法將設備賣至中國。「就我理解，14奈米以下的技術都是被禁止的，因此我不認為可以販售。」他並說，NIL設備需要的電力只要EUV機台的1/10；雖然NIL應該難以取代EUV，但相信這能創造新的機會和需求，已有許多客戶前來洽詢。
根據Canon 10月13日的聲明，NIL微影設備可用來生產5奈米晶片，且經過改良、將可進一步用來生產2奈米晶片。
華為最新5G智慧機「Mate 60 Pro」內建的處理器「麒麟9000s」引發市場矚目。加州研究機構TechInsights拆解後證實，中芯國際(0981.HK)運用現有設備，以名為「N+2」的第二代7奈米製程打造支援5G的麒麟9000s。
不過，南華早報報導，東京電子研究機構Fomalhaut Techno Solutions執行長Minatake Mitchell Kashio透過電子郵件受訪時表示，根據該機構拆解，麒麟9000s應該是中芯國際以自家的14奈米製程打造，但增添部分特殊技術，以使運算效能逼近7奈米等級處理器。
Tom`s Hardware 9月3日報導，中芯國際的「Twinscan NXT:2000i」深紫外光(DUV)微影設備雖可打造5奈米或精製的7奈米晶片，卻必須大量使用多重曝光(multiple patterning)程序，這是一種影響良率及成本的昂貴技術。因此，中芯國際5奈米製程的經濟效益，應該遠低於英特爾(Intel)、台積電(2330)及Samsung Foundry。
(圖片來源：Canon)
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