MoneyDJ新聞 2026-07-28 07:49:48 黃智勤 發佈
市場盛傳，中國已開始量產自主研發的浸潤式深紫外光(DUV)曝光機，引發投資人擔憂ASML在中國市場的長期成長；ASML股價27日重挫，帶動半導體股下殺。
綜合外媒引述科技媒體《The Information》報導指出，中國一家未具名、具官方背景的企業已開始生產DUV，預計今年可生產5台、明年產能提升至20台。相關技術在性能和可靠性方面仍然落後，需進一步測試，但長期而言可能挑戰ASML在中國的地位。
由於美國出口管制限制中國取得極紫外光(EUV)曝光機，DUV曝光機（用於將電路圖案曝光至矽晶圓）已成為中國晶片製造商目前能取得的最先進光刻設備。
隨著美國考慮進一步收緊對中DUV設備出口及維修服務限制，中國加速自研晶片製造工具，可望助國內製造商獲得更多本土設備供應來源；據悉，中國也正在積極自研國產EUV，但仍處於原型機階段。
相關消息引發晶片設備類股全面重挫，ASML在荷蘭掛牌的股票重挫逾8%，ASM國際和貝思半導體(BE Semiconductor)分別大跌7.1%與9.7%；美國設備商科磊(KLA)、科林研發(Lam Research)和應材(Applied Materials)也重挫；費半指數重挫逾2%。
摩根大通（小摩）分析師迪斯凡德(Sandeep Deshpande)認為，ASML股價下殺實屬過度反應。他指出，中國多年來一直生產較低階的曝光設備，但至今未對ASML在前段晶圓製造設備市場的市占率造成實質影響。
他也認為，ASML在技術能力與量產規模方面仍維持明顯領先，這波賣壓偏向市場情緒驅動，而非基本面惡化。不過，他也表示，中國半導體設備國產化的發展趨勢日益穩固，可能提高ASML中國營收面臨的長期風險
ASML近年已逐步降低對中國市場及DUV設備的依賴。公司資料顯示，中國市場占營收比重已由2024年的41%降至2025年的33%，今年第2季進一步降至14%；全球AI熱潮帶動各類晶片需求增加，也推升中國以外市場對DUV設備的需求。
ASML目前每年可生產約130台DUV浸潤式曝光機，公司規劃2027年將產能提高30%、2028年視需求再增加30%，以因應AI基礎建設帶來的設備需求成長。
(圖片來源：shutterstock)
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