MoneyDJ新聞 2022-07-25 13:31:02 記者 王怡茹 報導
在522億美金的美國晶片補助法案表決前夕，近日外媒爆出中國最大晶圓代工業者中芯國際7奈米製程已順利量產，並疑似抄襲台積電(2330)，引發各方高度關注。外界不免好奇，中芯在缺乏EUV(極紫外光)微影設備之下，為何還能往先進製程挺進？此外，由於過去台積電曾有兩度狀告中芯的先例，是否會因此再度對簿公堂？也是市場關注焦點之一。
根據Tom`s Hardware、SemiAnalysis報導，中芯晶圓代工客戶MinerVa的網站顯示，該公司的7奈米晶片從2021年7月開始量產。TechInsights買來這款晶片進行逆向工程，初步影像顯示，該晶片幾乎是台積電7奈米製程的翻版(a close copy of TSMC)，抄襲嫌疑濃厚。
自從美方「中芯禁令」發布以來，中芯在關鍵設備取得上等於被掐住喉嚨，所有先進製程的研發已轉向低調進行。在2022年第1季財報中，公司也未披露各製程節點對營收的貢獻數據，就是為了不要被抓住把柄，讓美方有理由再擴大制裁，如今疑似被抓包，也更牽動兩國的敏感神經。
事實上，中芯身為中國半導體的門面擔當，在梁孟松於2017年加入後，就積極展現追趕野心，根據2019年公布的技術藍圖，相當於台積電第一代7奈米的N+1製程(第二代FinFET)在2020年實現小規模量產，並將發展約當台積電7奈米加強版的N+2製程，而這次TechInsights傳出的消息，應是採N+2製程技術來生產產品。市場最好奇的是，沒有關鍵設備EUV的中芯，如何能夠成功讓7奈米產品上市。
2021年底，前台積電研發副總、浸潤式微影之父林本堅就曾表示，在無法取得EUV設備的情況下，中芯就可以發展到5奈米製程，現有技術已可以支援，只是不一定有效率。也就是說，只要有DUV(深紫外光)微影設備，不只可以擴充成熟製程，也能做到5奈米，這也是市場頻傳美國正遊說荷蘭、日本政府，要求將中芯銷售禁令範圍、類別擴大到DUV 的原因之一。
若中芯靠著DUV量產7奈米、甚至5奈米，會造成什麼威脅嗎?業界人士說明，EUV設備可以顯著地減少薄膜、蝕刻和檢測的循環，以微影(exposure)製程來看，每一道EUV能做的事，DUV大約需要花2~3道才能完成，對應到後面還有其他如蝕刻等製程，等於工序會增加更多，cycle time也會多出約40~50%。
在工序增加下，材料的耗費也會增多，因此7奈米DUV的生產成本、效率一定不如採用EUV的方案，且效能也差了一截。雖然EUV設備要價不斐，但從等效來看，反而是比較有利的方案，台積電第一版7奈米也已sunset、轉往EUV製程。
不過，對中芯來說，儘管被美方箝制住，發展先進製程依舊是勢在必行，只是從檯面上轉向檯面下而已。半導體已成戰略物資，就算投入成本再高、再沒效率，中芯也不能夠放棄，目的在於推動半導體在地化，降低他國對本土半導體廠商的牽制。
另外，外界也關心，中芯若涉及侵權，台積電是否會提告。一位熟悉國際法的資深律師則表示，觀察過去這類專利侵權爭議案件，多以和解收場居多，專利訴訟案以和解居多，主要是因訴訟期曠日廢時、費用龐大，除非是關係到最關鍵的技術，並會影響到公司賴以生存的業務，才會窮盡訴訟程序、告到底。
熟悉半導體的人士則認為，半導體公司進行逆向工程不是新鮮事，不過，廠商不一定會把最重要且關鍵的技術寫進專利，因其他競爭者就有機會做一定程度的更改、進行抄襲，來提升產品的效能；反而是一些比較基礎的、認定對手未來遲早會想到的，會先申請專利保護。
回顧過去，台積電曾在2003年、2006年狀告中芯，最後皆達成和解協議。當初的時代背景跟現今差異頗大，如今台積電不管是在技術、國際地位、資本投入上都不同昔日而語，現已建立出凡人無法跨越的護城河。尤其在美中貿易爭端下，來自中國競爭者的威脅已大幅降低，同時中國亦是僅次於美國的第二大市場，台積電也在當地持續擴產，如果挑起戰火，對公司幾乎沒有好處。
有部分人士認為，這次中芯的抄襲勢必是滴水不露，台積電若要提告也不一定穩操勝券。不過，該名律師認為，台積電只要把戰線拉到美國就好，一般國際企業在提起專利侵權訴訟時，大多會善用美國民事訴訟法上的長臂法則(Long Arm Statute)，選擇對自己較有利的法院，若真對簿公堂，台積電仍將占上風。
整體來看，分析師認為，近期傳出中芯量產7奈米的消息，從技術層次、商業利益來看，對於台積電都不致於有實質侵害，反而要觀察美國晶片法案即將進入表決，外傳擬附帶附美設廠業者未來10年不得在大陸進行特定投資的條件。在G2世界下，地緣政治風險最難以預測，對於供應鏈的布局也將帶來更多挑戰，台廠如何見招拆招，將牽動接下來的營運方向。
