MoneyDJ新聞 2026-11-05 14:54:52 王怡茹 發佈
半導體檢測分析廠汎銓(6830)今(5)日舉辦自主研發矽光子分析設備「MSS HG」實機實測發表會，宣布攜手國際量測大廠Anritsu(安立知)、旺矽(6223)及FormFactor(福達電子)三大合作夥伴，共同推進矽光子設備商業化。其中，與合作夥伴開發的兩款新機MSS HG-M、MSS HG-F，預計於明(2027)年第一季陸續推出，盼共同推進矽光子商業化。
汎銓指出，此次發表會共邀請25組客戶參與，現場展示MSS HG光損、漏光定位及整合量測能力，三大國際合作夥伴亦分別由高階主管率隊出席，展現各方對矽光子檢測及量測市場的重視。
在國際合作方面，汎銓已與Anritsu正式簽署全球合作銷售合約，雙方將結合MSS HG的光損定位及系統整合能力，以及Anritsu在高速光電量測領域的設備與技術優勢，共同拓展全球市場及客戶應用。
另一方面，汎銓與旺矽合作開發的MSS HG-M，以及與FormFactor共同開發的MSS HG-F，均預計於2027年第一季推出。公司表示，隨不同合作機型陸續進入開發階段，將依客戶應用場景及量測條件，持續擴充MSS HG設備整合彈性與市場覆蓋廣度。
MSS HG為汎銓自主研發的矽光子分析設備，主要整合光損、漏光定位分析及PIC(光子積體電路)性能量測功能，可協助客戶從發現量測異常，進一步追查光損實際發生位置，作為後續失效分析、設計驗證及製程改善的重要依據。
汎銓表示，透過光學影像與量測結果交互判讀，MSS HG可協助研發人員快速掌握光路異常與損耗位置，並結合公司既有故障分析(FA)及材料分析(MA)能力，提供從光學異常定位、結構觀察到材料解析的完整服務，相關技術可應用於PIC、光引擎、CPO及高速光通訊元件的研發與失效解析。
在商業模式方面，汎銓未來將以MSS HG及自主光損偵測技術為核心，同步推進矽光子分析與量測服務、設備銷售、國際設備商合作開發及專利授權四大方向。目前相關專利布局已涵蓋台灣、美國、日本及韓國，並取得歐洲39國發明專利核准，未來除推動設備商品化外，也將透過國際設備商合作及專利授權，進一步擴大技術應用範圍。
汎銓持續看好AI資料中心、高速光互連及CPO技術持續演進，將同步帶動矽光子研發與量測需求升溫。公司將持續透過自主技術、國際設備商合作及專利布局，推進MSS HG由分析服務設備朝全球矽光子研發與量測平台發展，隨2027年第一季兩款合作機型陸續推出，矽光子業務動能可望進一步升溫。
