MoneyDJ新聞 2022-10-05 06:47:51 記者 蔡承啟 報導
看好半導體需求逐年擴大，日本半導體(晶片)設備商Canon傳出將蓋新廠、倍增微影設備產能，藉此因應需求增加，且也將研發採用「奈米壓印(Nano-Imprint)」技術的次世代設備。
日經新聞4日報導，Canon將在日本興建半導體設備新工廠、增產使用於半導體製造核心製程的微影設備，該座新廠預計2023年內動工、目標2025年春天啟用生產，包含廠房興建費用及生產設備的總投資額預估將超過500億日圓。Canon目前利用宇都宮事業所和阿見事業所等日本國內2座據點生產微影設備，而Canon將在宇都宮事業所內約7萬平方公尺的空地上、暌違21年來首度興建微影設備新廠。
報導指出，Canon預估2022年半導體微影設備銷售量將年增29%至180台，近10年來飆增至4倍，而藉由此次蓋新廠、可將Canon整體微影設備產能提高至現行的近2倍，藉此因應需求增加。Canon微影設備全球市佔率(以台數換算)為3成、僅次於擁有6成市佔率的荷蘭ASML，而因英特爾、台積電(2330)等紛紛計畫在美國等地打造半導體新工廠，半導體需求有望年年攀升、因此Canon研判有必要擴增產能。業界預估，2030年全球半導體市場規模上看1兆美元。
據報導，除蓋新廠、倍增微影設備產能外，Canon也將從事採用「奈米壓印」技術的次世代設備的研發，且考慮進行生產。該次世代設備的研發由Canon主導，鎧俠(Kioxia)、大日本印刷(DNP)也參與。
報導指出，目前要形成數奈米(nm)等級的電路、就必須使用被稱為「EUV(極紫外光)」技術的設備，而當前EUV微影技術由ASML獨佔。只是EUV一台要價約200億日圓、且極為耗電，而若「奈米壓印」技術實用化的話，和EUV相比，預估微影製程的製造成本最高可刪減4成、耗電力預估最高可縮減9成。
晶圓代工廠積極投資、日本晶片設備銷售將破紀錄
日本半導體製造裝置協會(SEAJ)7月7日公布預測報告指出，因大型邏輯/晶圓代工廠、記憶體廠維持積極的投資意願，因此將2022年度(2022年4月-2023年3月)日本製晶片設備銷售額(指日系企業於日本國內及海外的設備銷售額)自前次(2022年1月13日)預估的3兆5,500億日圓上修至4兆283億日圓、將年增17.0%，年度別銷售額將史上首度突破4兆日圓大關、連續第3年創下歷史空前新高紀錄。
SEAJ表示，邏輯/晶圓代工廠的積極投資將持續、2022年以後將進一步擴大規模，帶動2023年度晶片設備需求預估將穩定成長，因此將2023年度日本製晶片設備銷售額自前次預估的3兆7,000億日圓上修至4兆2,297億日圓(將年增5.0%)、2024年度預估將年增5.0%至4兆4,412億日圓。
(圖片來源：
Canon官網)
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