MoneyDJ新聞 2026-03-25 15:57:19 周佩宇 發佈
汎銓(6830)今(25)日召開媒體茶敘，公司說明其已發布重訊，針對光焱科技(7728)提起專利侵權訴訟，指控其涉及使用與公司「光損偵測裝置」相關技術與設備，侵害其中華民國第I870008號發明專利，並已向智慧財產及商業法院提告，請求排除侵權行為及求償新台幣2億元。公司指出，後續將持續蒐證，若確認相關人士進一步涉及侵權，不排除擴大法律行動，以維護公司研發成果與股東權益。
汎銓表示，為避免光焱持續侵害本公司智慧財產權，甚至可能因為違法行為遭到漠視的同時，進一步引發技術及重要機密外洩等更重大的違法事件疑慮，汎銓考量台灣整體科技產業之價值與重要性，以及維護公司全體利害關係人權益之立場下，基於長期投入研發所產生的競爭優勢，訴請法院判相關被告公司及有關人等立即停止侵害專利權的所有行為，並請求損害賠償新台幣2億元，以樹立對於專利與營業秘密上採最高標準捍衛的決心與努力。
汎銓表示，矽光子為AI與光通訊發展關鍵，而在矽光子失效分析流程中，「光損定位」為最重要的第一步。相較傳統電子IC可直接找出缺陷，光學IC需透過特定技術定位漏光位置，否則後續分析無法進行。公司指出，其專利核心涵蓋IROM、IRCCD等技術，為矽光子分析的關鍵基礎，目前已完成台灣、日本與美國專利布局，且過去同業曾提出17項舉證申請撤銷專利，最終全數遭駁回，顯示專利具備穩固性。
在技術與競爭優勢方面，汎銓指出，公司早在6年前即完成相關技術開發並導入客戶使用，目前已建置設備並長期服務大客戶，美國大型AI業者亦已在公司內進行相關作業。公司強調，除專利與技術門檻外，其設備在光學靈敏度與定位準確度上優於同業，能有效解決客戶無法定位問題的痛點，並累積長期學習曲線優勢。
營運布局方面，汎銓表示，將由既有分析服務延伸至設備銷售，預計今年10月完成首台完整設備，11至12月舉辦發表會，並逐步切入量產端應用。產品將採模組化設計，依配置不同價格約落在新台幣5,000萬元至1億元。公司指出，潛在客戶包括晶圓廠、大型AI公司、矽光子設計公司及測試廠，隨著PIC設計需求增加，預期明年設備需求將逐步升溫。
汎銓進一步表示，公司掌握矽光子分析流程的關鍵入口，並結合設備銷售與後續材料分析服務，形成整合模式，提升客戶黏著度。公司指出，目前矽光子相關業務已開始貢獻營收，隨著市場逐步發展，今年底至明年成長動能可望轉強，未來將持續深化技術與專利布局，以鞏固市場地位。
