聯亞資本支出上修至13億;今年成長有望更強

2026/04/22 15:23

MoneyDJ新聞 2026-04-22 15:23:15 黃立安 發佈

光通訊磊晶廠聯亞(3081)今(22)日召開法說會,公司看好矽光產品需求持續升溫,董事會已決議將今年資本支出由原先約7億元大幅上修至13.15億元,用於擴充前段鍍金與曝光蝕刻等製程產能,提前布局2027年下半年後的需求成長。聯亞亦預告,未來一至兩季仍可能進一步增加資本支出,以因應2028年後的產能,且目前產出仍明顯低於客戶需求,不過在訂單動能支撐下,今年營收成長會努力達成優於過去表現。

此外,聯亞董事會亦通過,將與日本基板供應商住友電氣工業簽訂五年期長約,並持續與其他供應商洽談合作,以強化中長期供料穩定。

針對資本支出結構,聯亞說明分為兩大方向。首先為產能擴充,前段MOCVD設備增加幅度與先前規劃一致,預計本波擴產完成後,至2027年時,前段MOCVD產能將較2026年底增加逾100%。

其次則為關鍵曝光設備投資。聯亞指出,目前公司掌握多種曝光技術,其中第二種技術已於去年底取得多數美國客戶認證,且目前全球應僅聯亞採用,其產出速度與產能表現均優於傳統e-beam技術。

聯亞亦導入第三種曝光技術,為未來6吋以上基板需求預作準備,公司表示,該設備屬半導體等級,且全球可能僅有單一供應商,因此須提前下單,相關投資亦已納入此次資本支出規劃中。

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